이, J.-Y., 리, K.-S., 최, S., Guslienko, K. Y. & Kim, S.-K. 자기 나노 스트라이프에서 움직이는 도메인 벽의 내부 구조의 동적 변환. Phys. Rev. B 76, 184408 (2007). 실험 연구는 시뮬레이션을 검증하기 위해 MFM 이미징 기술을 사용하여 비대칭 분기 구조에서 DW 모션에 대해 수행되었다. 도 3(a)은 이전 테스트 구조와 비슷한 치수를 가진 PD 구조의 SEM 이미지를 나타낸다.

이 PD 구조에서, Doffset은 200 nm이다. 도 3b(i)는 횡방향 나노와이어와 가지 구조가 각각 +y 및 -x 방향으로 자화될 때 초기 자화 상태의 MFM 이미지를 나타낸다. 자기장이 +x 방향을 따라 증가함에 따라, HH-ACW DW는 도 3b(ii)에 나타낸 바와 같이 65 Oe의 전계 강도에서 상부 분기로 주입및 구동되었다. 이로 인해 상부 분기의 대비가 밝은 분기에서 어두운 색으로 바뀝니다. MFM 이미징으로부터 수득된 바와 같이 PD 구조의 어레이에 대한 최종 자화 상태는 도 3b(iii)에 나타내었다. 어레이의 16개 구조 중 15개의 구조는 상부 분기의 자기 대비에 변화를 보였다. 하나의 구조만이 반대의 경향을 낳았습니다. 그러나 장치에서 반복된 측정을 통해 동일한 장치가 매번 실패하지 않는 것으로 나타났습니다. 관찰된 출력의 변동은 열 불안정때문일 수 있다.

도 3c(i)는 횡방향 나노와이어와 가지 구조가 각각 -y 및 -x 방향으로 포화상태일 때의 MFM 이미지를 나타낸다. 자기장이 +x 방향을 따라 증가함에 따라, HH-CW DW는 도 3c (ii)에 도시된 바와 같이 상부 가지로 주입및 구동되었다. 하나의 구조를 배제하는 이러한 구조의 배열에 대해 유사한 관찰이 얻어졌으며, 나머지는 동일한 경향을 따랐다. 상기 MFM 측정은 HH-ACW 및 HH-CW 구성 모두에 대해 단일 구조에서 20회 반복되었고 DW가 항상 PD 구조의 상부 분기를 따라 전파되는 것으로 나타났다. 상기 실험은 PU 구조에 대해서도 수행되었다. 결과는 DW가 할당된 키랄성(보충 도)과 무관하게 하부 가지로 이동함을 나타낸다. S3)를 참조하십시오. 따라서 장치 형상에 비대칭을 도입함으로써 DW는 특정 궤적에서 결정적으로 전파될 수 있습니다. 분기에서 DW의 최종 키랄성은 초기 방향과 다를 수 있지만 초기 키랄성을 설정하면 두 개의 서로 다른 초기 조건에 대한 결과를 비교할 수 있습니다. 우리의 결과는 DW의 초기 또는 최종 키랄성과 무관합니다.

Doffset의 함수로 두 가지 중 하나에서 DW를 이동하는 데 필요한 지먼 에너지 플롯. 선택적 궤적으로 인해 부과된 두 개의 잠재적 에너지 장벽과 기하학적 비대칭으로 인해 부과된 다른 에너지 장벽 간의 경쟁이 있습니다. PD 구조의 기하학적 비대칭으로 인한 전위 장벽은 100 nm 이상이면 DW가 상부 분기에서 이동하기 위해 더 낮다. DW 궤적의 위성 거동을 가지 구조로 의한 비대칭을 도입하여 극복했다. 도 2(a)는 출력 분기가 -y 방향으로 변위된 구조의 회로도를 나타내며, 이 구성은 `풀다운`(PD)으로 레이블이 지정됩니다. 오프셋은 분기가 세로 나노와이어의 중심에서 변위된 거리를 나타냅니다. CW 및 ACW DW가 이 구조에서 구동될 때 Doffset = 200 nm에 대한 시뮬레이션 결과는 도 2b(i-iv)에 나타내었다. 도 2b(i)는 운전 전에 ACW VDW를 가진 구조물의 초기 자화 상태를 도시한다.

도 2b(ii)는 구조의 최종 자화 상태를 나타내며, 상부 분기의 자화가 -x에서 +x 방향으로 전환된 것을 나타낸다. 이는 ACW VDW가 상위 분기를 따라 전파되는 것을 의미합니다. 도 2b(iii)는 운전 전에 CW VDW를 가진 구조물의 초기 자화 상태를 도시한다. CW VDW는 도 2b(iv)에 도시된 바와 같이 상부 분기에서 이동한다. 결과는 키랄성에 관계없이 DW가 상부 분기를 따라 전파된다는 것을 보여줍니다.

 

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